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第119章 中威与中心国际

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张如京看了他一眼,还未说话,赵步凡顿时红了脸,不好意思了起来。

他正要解释时,中心国际一名工程师笑着回答他道:“按摩尔定律,90nm之后就是65nm,然后就是45nm。这里,intel和TJD等厂商的标准不一样,有的也说是60nm和40nm。”

赵步凡连忙道:“原来是这样。”

赵默却忽然笑了起来,说道:“如果我所料不差,应该是TJD在瞎搞吧,不按规矩来。”

“啊?”

“这里是覆膜,也就是氧化,在晶圆表面产生一层氧化膜~”

“这里是涂光刻胶,也可以说是光阻或者光阻剂,在晶圆表面涂抹均匀,通过光线(紫外光、深紫外光)光照,让其溶解发生变化的耐刻蚀薄膜材料。不同等级的芯片制程,需要用不同材质和纯度的光刻胶~”

“光刻,是所有生产工艺流程中最重要的一步,也是最难的一步,将紫外光通过镜片,照射在准备好的集成电路掩膜版上,将设计好的电路图光刻在晶圆上,被光照射的部分,光刻胶溶解,形成对应的电路~”

“然后清洗、刻蚀,刻蚀就是将晶圆上没有光刻胶的部分刻蚀出来,在晶圆上形成电路,有光刻胶的部分因为光刻胶耐刻蚀,所以不被腐蚀,晶圆被保护~”

……

在他身后,杨婵、赵步凡等人无不惊愕的看向了他,不明白他怎么突然说这话。

正有些忐忑时,他们却见到张如京博士惊讶的看向了赵默,问道:“赵生对TJD比较了解吗?”

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“一层又一层的光刻、沉积,制程越先进的芯片,层数越多。中心国际目前的制程能力达到了90nm,去年成功量产了,是世界上为数不多的几家芯片制造厂商之一……”

说到最后,张如京博士既高兴也自豪,这是他辛苦工作的成果。

但很快,他就收敛了这股情绪,转而平静的说道:“可惜,我们的技术还是落后于TJD、三星他们,他们的制程能力已经推进到了45nm,比我们高了两代~”

“90nm到45nm是相差很大的样子,只有两代差距吗?”

赵默身后,赵步凡忽然问话道。

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